ASML heeft de samenwerking met Samsung Electronics versterkt. Dit maakte de Nederlandse halfgeleidergigant dinsdag bekend, nadat eerder al een nieuwe samenwerking met TSMC werd aangekondigd.
Net als TSMC zal Samsung helpen om de overgang naar 12 inch photomasks te versnellen om zo de waarde van High NA EUV-lithografie te maximaliseren.
Een overgang van 6 inch maskers naar 12 inch maskers zal naar verwachting de productiviteit verder verhogen, terwijl de kosten lager worden. “Dit komt de gehele industrie ten goede”, aldus ASML.
Samsung is ook van plan om ASML’s High NA EUV technologie als eerste in de industrie te introduceren voor de grootschalige productie van DRAM in 2028.
ASML meldde dinsdag geen financiële details.
Elke ochtend beleggingstips ontvangen? Meld u gratis aan voor Cashcow Daily! Deel dit artikel